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投资者提问:你好,请问贵公司193纳米光刻胶是否已经投产?此类光刻胶的主要…

投资者提问:

你好,请问贵公司193纳米光刻胶是否已经投产?此类光刻胶的主要适合是半导体芯片还是LED芯片?

董秘回答(南大光电SZ300346):

感谢您的关注!
193nm光刻胶是集成电路芯片制造的重要关键材料,可以用于 90nm~14nm 技术节点的集成电路制造工艺。
公司“ArF光刻胶开发和产业化项目”尚处于光刻胶样品验证阶段,未形成量产。验证过程预计需要12-18个月,甚至更长的时间。
ArF(193nm)光刻胶除了产品开发技术突破难度大、工艺要求高外,还存在稳定量产周期长、风险大等特点,且后续是否能取得下游客户的订单,能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。敬请广大投资者关注风险,谨慎投资。

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